泛半导体铝合金腔体法兰解决方案（三）：O圈密封真空法兰

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前述两种解决方案均采用CF法兰，可应用于超高真空系统中。然而在半导体制造及相关设备领域，高真空环境已经能够满足使用需求。例如，光刻机、薄膜沉积设备和刻蚀设备的内部环境均为高真空。这种情况下，采用KF、ISO以及其他定制的O圈密封法兰更具经济效益。

KF法兰是一种小尺寸的快卸法兰，适用于真空度可达10^-8 mbar的系统，密封材料通常包括Viton、Buna、Silicone、EPDM和铝合金等，主体材质通常为不锈钢。KF法兰结构包括法兰、卡箍、O圈密封圈和中心定位环，利用卡箍将这些组件固定，如下图所示。

KF法兰连接方式

（1：CF/KF转接法兰；2：卡箍；3：中心定位环；4：O形密封圈；5：KF转接法兰）

KF法兰的优点在于结构简单、使用方便，易于安装和拆卸。但KF法兰的适用管道口径较小，*大直径为50mm，如果需要更大口径的法兰，可以选择ISO法兰。

ISO法兰的常用直径为63mm和100mm，*大直径可达630mm，常见形式包括ISO-K和ISO-F。ISO法兰的真空度、密封材质及主体材质均与KF法兰相同，但相关组件略有不同。

ISO-K法兰结构包括法兰、密封圈和中心定位环，使用卡钳进行固定，如下图所示。

ISO-F法兰结构包括法兰、密封圈和中心定位环，采用螺栓进行固定，如下图所示。

ISO法兰也可提供铝制法兰，以减轻法兰重量。该类型法兰采用Viton密封，主体材质为铝合金6061-T6，可与其他ISO法兰和组件兼容。但相比不锈钢产品，其颈部焊接线更厚。

无论是KF法兰还是ISO法兰，我们均可提供完整的产品系统，并可根据您的需求定制O圈密封法兰。

三同轴浮动屏蔽真空馈通定制O圈密封法兰

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